Shaishaishai ALOE PDRN Cooling Mud Mask 100 ml
Cod: 070384
Mască purifiantă din argilă cu efect răcoritor și calmant
380 lei
Atenție, stocul acestui produs este limitat
Doar 25 produse disponibile în stocSelectează cantitatea
Plăți rapide, sigure și fără riscuri:
-
Descriere
Shaishaishai Aloe PDRN Cooling Mud Mask ajută la curățarea porilor, calmarea pielii și reducerea excesului de sebum. Formula sa combină proprietățile purifiante ale argilei cu ingrediente calmante și regenerante, oferind un ten mai curat, neted și revitalizat.
Textura sa cremoasă aderă ușor pe piele, oferind un efect de răcorire imediată, ideal pentru pielea stresată sau încălzită, în timp ce ajută la detoxifierea și echilibrarea tenului.
Beneficii:
- curăță porii în profunzime și elimină impuritățile
- absoarbe excesul de sebum și matifiază pielea
- calmează iritațiile și reduce roșeața
- oferă efect răcoritor imediat
- îmbunătățește textura pielii și aspectul porilor
Ingrediente principale:
Aloe Vera calmează intens pielea, hidratează și reduce inflamațiile.
PDRN (Polydeoxyribonucleotide) susține regenerarea pielii și îmbunătățește elasticitatea.
Argilă (Kaolin/Bentonite) curăță porii și absoarbe excesul de sebum.
Centella Asiatica ajută la calmarea pielii și la refacerea barierei cutanate.
Panthenol hidratează și reduce iritațiile, oferind confort pielii.
-
Mod de utilizare
După spălarea feței, aplicați ușor pe fața uscată, evitând zona ochilor și a gurii. După 5-10 minute, clătiți bine cu apă călduță.
-
Ingrediente
Water, Kaolin, Dipropylene Glycol, Bentonite, Betaine, 1,2-Hexanediol, Glycerin, Cellulose, Methylpropanediol, Collagen, Xanthan Gum, Titanium Dioxide, Centella Asiatica Extract, Ficus Carica (Fig) Fruit Extract, Sodium Hyaluronate, Dimethylsilanol Hyaluronate, Hydrolyzed Sodium Hyaluronate, Hyaluronic Acid, Potassium Hyaluronate, Sodium Hyaluronate Crosspolymer, Hydroxypropyltrimonium Hyaluronate, Sodium Hyaluronate Dimethylsilanol, Sodium Acetylated Hyaluronate, Beta-Glucan, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Ceramide NP, Aloe Barbadensis Leaf Extract (2ppm), Sodium DNA (2ppm), Hydrogenated Polydecene, Ethylhexylglycerin, Hydroxyacetophenone, Butylene Glycol, Laminaria Japonica Extract, Chromium Oxide Greens, Eclipta Prostrata Leaf Extract, Methyl Diisopropyl Propionamide, Hydrogenated Lecithin, Fructooligosaccharides, Tocopherol, Disodium EDTA, Leuconostoc/Radish Root Ferment Filtrate
Produse similare
Masca de argila calmanta cu extract de Centella si arbore de ceai
111 lei 130 lei
Masca de argila hidratanta cu extract de trandafir
111 lei 130 lei
Masca de argila antioxidanta cu extract de mure
111 lei 130 lei
Un set limitat de măști de față într-o versiune mini
468 lei 550 lei
Masca pentru curatarea profunda a porilor si a punctelor negre
242 lei 284 lei
Mască purifiantă pentru pori cu mung bean și argilă naturală
454 lei
Masca hidratanta cu Centella Asiatica si Niacinamida
357 lei 420 lei
Ce spun clienții despre produs
Nu sunt recenzii
Fii primul care va posta o recenzie la acest produs. Recenziile pot fi postate doar de utilizatorii, care au procurat produsul
0 recenzii